Meskipun litografi EUV dianggap sebagai standar untuk fabrikasi chip 7nm, beberapa analis, seperti Tilly Zhang dari Gavekal Dragonomics, menyatakan bahwa litografi deep ultraviolet (DUV) yang dimiliki oleh SMIC juga dapat digunakan untuk memproduksi chip 7nm.
Zhang mengakui bahwa DUV memiliki kelemahan dalam hal kompleksitas dan biaya, tetapi teknis tidak mustahil.
Sementara SMIC mencoba mengejar ketertinggalan dalam teknologi fabrikasi chip, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) dan Samsung telah berhasil melangkah lebih jauh dengan fabrikasi 5nm dan 3nm.
Kedua perusahaan ini telah menggunakan litografi EUV, memungkinkan mereka menghasilkan chip yang lebih kecil, lebih cepat, dan lebih hemat energi.
Keberhasilan TSMC dan Samsung dalam mengadopsi teknologi terbaru menempatkan China, termasuk SMIC, beberapa tahun lebih belakang dalam hal fabrikasi chip.
Munculnya Huawei Mate 60 Pro dengan chip Kirin 9000s yang diduga menggunakan teknologi fabrikasi 7nm oleh SMIC menimbulkan banyak pertanyaan dan kontroversi.
Meskipun tampaknya SMIC telah berhasil membuat terobosan dalam fabrikasi chip, masih ada ketidakpastian seputar metode yang digunakan dan dampaknya pada industri semikonduktor global.
Dalam persaingan ekonomi dan politik, teknologi semikonduktor menjadi elemen kunci, dan Huawei's Mate 60 Pro menciptakan sebuah narasi baru yang menarik dalam dinamika global yang terus berubah.***